光刻机的简介
时间：2026-02-05 00:12:08来源：光刻机是半导体制造中的核心设备，用于将电路图案精确地转移到硅片上。它是芯片生产的关键环节，直接影响芯片的性能和良率。现代光刻技术主要依赖极紫外光（EUV）或深紫外光（DUV），通过精密光学系统实现纳米级的图案转移。
| 项目 | 内容 |
| 定义 | 用于在硅片上蚀刻微小电路图案的精密设备 |
| 类型 | DUV光刻机、EUV光刻机等 |
| 原理 | 利用光束通过掩模版，将设计图案投影到涂有光刻胶的硅片上 |
| 应用 | 芯片制造、微电子器件生产 |
| 技术难点 | 精密对准、光源稳定性、分辨率控制 |
光刻机的发展推动了集成电路的微型化与高性能化，是现代信息技术的基础支撑。
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